اشتراک در خبرنامه
لطفاً نشانی پست الکترونیک خود را برای دریافت اطلاعات و اخبار پایگاه در کادر زیر وارد کنید.
آمار سایت
- کل کاربران ثبت شده: 1963 کاربر
- کاربران حاضر در وبگاه: 0 کاربر
- میهمانان در حال بازدید: 595 کاربر
- تمام بازدیدها: 22107232 بازدید
- بازدید ۲۴ ساعت گذشته: 20088 بازدید
کنفرانس های انجمن
همایش
اپتیک و فوتونیک،
بهمن 1403
(برگزار شد)
استفاده از مطالب ارائه شده در این پایگاه با ذکر منبع آزاد می باشد.
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:



URL: http://opsi.ir/article-1-952-fa.html








2- دانشگاه تهران
3- دانشگاه صنعتی امیرکبیر
در این مقاله به نحوه ساخت ماسک لیتوگرافی یک به یک جهت تولید انواع موجبرها و بطور خاص موجبر ماخ-زندر در بستر الکترواپتیک پرداختهایم. برای این کار ابتدا روی زیرلایهای از جنس شیشه، لایه نازکی از مس لایهنشانی کرده و سپس با استفاده از جاروب لیزری طرحواره موجبر ماخ – زندر روی آن ایجاد میگردد. لیزر مورد استفاده از نوع دیودی با طول موج 405nm و توان 65mW میباشد. پهنای کندگی به ازای ضخامت لایهنشانی شده 100nm، 8.5µm میباشد. زاویه میان شاخههای ایجاد شده در اتصال Y ماسک ماخ – زندر 2.8° در نظر گرفته شده است.
بازنشر اطلاعات | |
![]() |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |