اشتراک در خبرنامه
لطفاً نشانی پست الکترونیک خود را برای دریافت اطلاعات و اخبار پایگاه در کادر زیر وارد کنید.
آمار سایت
- کل کاربران ثبت شده: 1962 کاربر
- کاربران حاضر در وبگاه: 0 کاربر
- میهمانان در حال بازدید: 344 کاربر
- تمام بازدید‌ها: 21907364 بازدید
- بازدید ۲۴ ساعت گذشته: 41158 بازدید
کنفرانس های انجمن
همایش
اپتیک و فوتونیک،
بهمن 1403
(برگزار شد)
استفاده از مطالب ارائه شده در این پایگاه با ذکر منبع آزاد می باشد.
سال 28، شماره 2 - ( مجموعه مقالات پذیرفته و ارائه شده در بیست و هشتمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران 1400 )
ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS سال28 صفحات 897-894 |
برگشت به فهرست نسخه ها
Download citation:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
ghazanfar M, Behroodi E, Latifi H. Design and Fabrication of an Auto-Focus System Based on Astigmatism Method for Direct Write Laser Lithography. ICOP & ICPET _ INPC _ ICOFS 2022; 28 (2) :894-897
URL: http://opsi.ir/article-1-2622-fa.html
URL: http://opsi.ir/article-1-2622-fa.html
غضنفر محسن، بحرودی ابراهیم، لطیفی حمید. طراحی و ساخت سیستم خودکانونی به روش آستیگماتیسم جهت استفاده در لیتوگرافی لیزری. مقالات پذیرفته و ارائه شده در کنفرانس‌های انجمن اپتیک و فوتونیک ایران. 1400; 28 (2) :894-897
محسن غضنفر1 
، ابراهیم بحرودی1 ، حمید لطیفی*1
، ابراهیم بحرودی1 ، حمید لطیفی*1
1- دانشگاه شهید بهشتی تهران
چکیده: (723 مشاهده)
چالشهای متعددی در ساخت مدارهای مجتمع فوتونیکی وجود دارد. یکی از چالشهای ساخت این نوع از مدارها، خودکانونی بلادرنگ پرتو لیزر بر روی سطح فوتورزیست در لیتوگرافی لیزری است. در این راستا یک سیستم خودکانونی طراحی و ساخته شد. این سیستم بر اساس روش آستیگماتیسم عمل میکند. این سیستم خودکانونی می تواند با دقت ۱۳۰ نانومتر ناهمواریهای سطح فوتورزیست را تشخیص داده و بدون استفاده از نرمافزار و به صورت یک سیستم خوداتکا با سرعت بسیار بالا در هنگام لیتوگرافی لیزری عمل کند.
ارسال پیام به نویسنده مسئول
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |
