اشتراک در خبرنامه
لطفاً نشانی پست الکترونیک خود را برای دریافت اطلاعات و اخبار پایگاه در کادر زیر وارد کنید.
آمار سایت
- کل کاربران ثبت شده: 1962 کاربر
- کاربران حاضر در وبگاه: 0 کاربر
- میهمانان در حال بازدید: 225 کاربر
- تمام بازدید‌ها: 21999558 بازدید
- بازدید ۲۴ ساعت گذشته: 39109 بازدید
کنفرانس های انجمن
همایش
اپتیک و فوتونیک،
بهمن 1403
(برگزار شد)
استفاده از مطالب ارائه شده در این پایگاه با ذکر منبع آزاد می باشد.
BibTeX | RIS | EndNote | Medlars | ProCite | Reference Manager | RefWorks
Send citation to:
URL: http://opsi.ir/article-1-1191-fa.html
، الهام قویدل1
در این پژوهش، اثر محیط اتانول و استون بر روی خصوصیات اپتیکی اکسید گرافن تولید شده به روش کندوسوز لیزری به صورت تجربی بررسی شده است. هارمونیک دوم لیزر پالسی نئودیم – یاگ در طول موج 532 نانومتر برای کندوسوز هدف گرافیت در محیط اتانول و استون به کار برده شد. هدف از این تحقیق بررسی پتانسیل محیط اتانول وو استون برای تولید گرافن بود. نمونه های تولید شده توسط طیف جذبی در ناحیه UV-Vis-NIR
، تصاویر میکروسکوپ الکترونی عبوری، طیف سنجی رامان و طیف فوتولومینسانس مطالعه شدند. نتایج نشان می دهد نانوساختارهای تولید شده به دو دسته تقسیم می شوند: نانوذرات کربنی و نانوصفحات گرافن که بخش اعظم آن اکسید شده است. نانوذرات کربنی شکل گرفته در استون بزرگتر از نانوذرات ایجاد شده در اتانول هستند وو همچنین پیوندهای sp2 بیشتری در محیط الکل شکل گرفته اند.
| بازنشر اطلاعات | |
 |
این مقاله تحت شرایط Creative Commons Attribution-NonCommercial 4.0 International License قابل بازنشر است. |
