fa اندازه گیری نمایه لایه نازک با استفاده از تداخل سنجی تخصصی Special پژوهشي Research یکی از روش های متداول برای اندازه گیری ضخامت لایه های نازک استفاده از تداخل سنجی نوری است که به دلیل غیر مخرب بودن و عدم نیاز به کالیبراسیون بسیار مورد توجه می باشد. دقت اندازه گیری ضخامت لایه با این روش در بهترین حالت در حدود nm30- 20 بوده و تنها ضخامت میانگین لایه بدست می آید. در این مقاله ما با کمک یک میکروسکوپ تداخلی و با برازش طرح تداخلی از دو طرف پله به یک مدل نظری مناسب توانسته ایم دقت اندازه گیری را به کمتر از nm10 برسانیم و علاوه بر آن نمایه تغییرات ضخامت لایه ها را نیز بدست آوریم One of the popular techniques for the measurement of the thickness of thin films is based on light interferometry, which has the advantage of being non-destructive and calibration-free. However, the uncertainty achieved by this method is not usually better than 20-30 nm, and it can only measure the average film thickness. In this work, by using an interference microscope and fitting the interference patterns to an appropriate model, we are able to improve the precision to less than 10‌nm, and also provide the film thickness profile. تداخل سنجی, لایه نازک, اندازه گیری ضخامت, میکروسکوپ تداخلی Interferometry, Thin Film, Thickness Measurement, Interference Microscope 1073 1076 http://opsi.ir/browse.php?a_code=A-10-1-508&slc_lang=fa&sid=1 Mehdi Ashrafganjoie مهدی اشرف گنجویی m.ganjoie@ut.ac.ir 10031947532846002935 10031947532846002935 Yes University of Tehran دانشگاه تهران Khosrow Hassani خسرو حسنی hassanikh@ut.ac.ir 10031947532846002936 10031947532846002936 No University of Tehran دانشگاه تهران