fa ساخت تک لایه ضد بازتاب پهن باند بر زیر لایه سیلیکونی به روش متخلخل سازی به وسیله سونش شیمیایی تخصصی Special پژوهشي Research <strong><span style="font-family: &quot;b nazanin&quot;;"><span style="font-size: 10pt;">یکی از روش</span></span></strong><span dir="LTR">&shy;</span><strong><span style="font-family: &quot;b nazanin&quot;;"><span style="font-size: 10pt;">های موثر ساخت تک لایه ضد بازتاب، سونش شیمیایی به کمک فلز&nbsp;</span></span></strong><strong><span style="font-family: &quot;b nazanin&quot;;"><span style="font-size: 10pt;">(</span></span></strong><span dir="LTR">MACE</span><strong><span style="font-family: &quot;b nazanin&quot;;"><span style="font-size: 10pt;">)&nbsp;</span></span></strong><strong><span style="font-family: &quot;b nazanin&quot;;"><span style="font-size: 10pt;">در دمای محیط است. نانو ساختار&shy;های سیلیکونی با لایه&shy;نشانی نانو ذرات نقره به روش غوطه وری در بازه&shy;های زمانی متفاوت و زمان سونش مختلف بر روی زیر لایه سیلیکون ساخته شده&shy;اند.</span></span></strong>&nbsp;<strong><span style="font-family: &quot;b nazanin&quot;;"><span style="font-size: 10pt;">بازتاب سطح متخلخل سیلیکون با زمان لایه نشانی 40 ثانیه و مدت زمان سونش 5 ساعت، در بازه طیفی</span></span></strong>&nbsp;&nbsp;<strong><span style="font-family: &quot;b nazanin&quot;;"><span style="font-size: 10pt;">&nbsp;400-5000 نانومتر به کمتر از 1/2% رسیده است. بنابراین می&shy;توان با هزینه کم و بدون تجهیزات پیشرفته در دمای محیط، به ساختار تک لایه ضد&shy;بازتاب در پهنای طیفی وسیع دست یافت، که در بسیاری از سامانه&shy;های اپتیکی و یاخته&shy;های خورشیدی برای افزایش بازده</span></span></strong>&nbsp;<strong><span style="font-family: &quot;b nazanin&quot;;"><span style="font-size: 10pt;">&nbsp;و کارایی کاربرد دارد.</span></span></strong> Metal assisted chemical etching (MACE) method is an effective process for the fabrication of single anti-reflection layer at room temperature. Nanostructures on silicon substrate with different immersion coating time and different etching time have been fabricated. The reflection on porous surface with coating and etching time of 40s and 5h respectively, in spectral range of 400-5000 nanometer have been achieved lower than 2.1%. Therefore, the structure of single anti-reflection layer in wide spectral range can be obtained through low cost and without advanced equipment at room temperature, that is used in many optic systems and solar cells to increase efficiency and performance.&nbsp; یاخته­ های خورشیدی, لایه ضد بازتاب, سطح متخلخل, MACE Anti-reflection layer, Porous surface, MACE, Solar cells 497 500 http://opsi.ir/browse.php?a_code=A-10-1-1622&slc_lang=fa&sid=1 Parisa Hosseinizadeh پریسا حسینی زاده 10031947532846007133 10031947532846007133 Yes Science faculty, Physics department, Esfahan University دانشگاه اصفهان Fatemeh Malekmohammad فاطمه ملک محمد 10031947532846007134 10031947532846007134 No Science faculty, Physics department, Esfahan University دانشگاه اصفهان Mohammad Malekmohammad محمد ملک محمد 10031947532846007135 10031947532846007135 No Science faculty, Physics department, Esfahan University دانشگاه اصفهان