fa طراحی و ساخت پوشش پرتوشکاف چند لایه در نواحی طول موجی 5-5/3 و 12-8 میکرومتر تخصصی Special پژوهشي Research <p><span style="line-height: 20.79px;">در این پژوهش، طراحی و ساخت نمونه&shy;ای از پوشش پرتوشکاف تیغه&shy;ای چند لایه&shy; که قابلیت تفکیک دو ناحیه&shy;ی طول موجی با بیشینه&shy;ی بازتاب در 5-5</span><sub style="line-height: 20.79px;">/</sub><span style="line-height: 20.79px;">3 میکرومتر و بیشینه&shy;ی عبور در 12-8 میکرومتر را دارد، گزارش شده است. این پرتوشکاف تیغه&shy;ای بر بستره&shy;ی&nbsp;</span><span dir="LTR" style="line-height: 20.79px;">Ge</span><span style="line-height: 20.79px;">&nbsp;و با استفاده از مواد اولیه&shy;ی&nbsp;</span><span dir="LTR" style="line-height: 20.79px;">Ge</span><span style="line-height: 20.79px;">&nbsp;و&nbsp;</span><span dir="LTR" style="line-height: 20.79px;">IR-</span><span dir="LTR" style="line-height: 20.79px;">F62</span><span dir="LTR" style="line-height: 20.79px;">5</span><span style="line-height: 20.79px;">&nbsp;&nbsp;به روش لایه&shy;نشانی تبخیر فیزیکی (</span><span dir="LTR" style="line-height: 20.79px;">PVD</span><span style="line-height: 20.79px;">) در محفظه&shy;ی خلاء توسط روش پرتو الکترونی و با بهره&shy;گیری از روش ضخامت&shy;سنجی کریستالی ساخته شده است. در نهایت نمونه&shy;ی ساخته شده دارای میانگین بازتاب 6</span><sub style="line-height: 20.79px;">/</sub><span style="line-height: 20.79px;">93 درصد در محدوده&shy;ی طول موجی 5-5</span><sub style="line-height: 20.79px;">/</sub><span style="line-height: 20.79px;">3 میکرومتر و میانگین عبور 1</span><sub style="line-height: 20.79px;">/</sub><span style="line-height: 20.79px;">96 درصد در محدوده&shy;ی طول موجی 12-8 میکرومتر است.</span></p> <p><span style="line-height: 20.79px;">In this research we report the design and fabrication of multi-layers beamsplitter coating in &nbsp;3.5-5&micro;m & 8-12&micro;m wavelength regions. These multi-layer coated optics can be used to separate 3.5-5&micro;m&nbsp; (in reflection channel)&shy;&shy; and 8-12&micro;m (in transmission channel) wavelength regions .The coating material combination used on Ge substrate was Ge as high index material and IR-F625 as high index material . Deposition was performed by physical vapor deposition (PVD) technique in a vacuum chamber by using electron gun and thermal boat. Quartz crystal was used for thickness control .Result achieve was 93</span><strong style="line-height: 20.79px;"><em><span dir="RTL">.</span></em></strong><span style="line-height: 20.79px;">6% average reflection in 3</span><strong style="line-height: 20.79px;"><em><span dir="RTL">.</span></em></strong><span style="line-height: 20.79px;">5-5&micro;m region and 96.1% average transmission in 8-12 &micro;m</span></p> پوشش پرتوشکاف چند لایه, لایه نشانی تبخیر فیزیکی multi-layer beamsplitter coating, physical vapor deposition (PVD) 881 884 http://opsi.ir/browse.php?a_code=A-10-1-1261&slc_lang=fa&sid=1 mohadeseh akouchakiyan محدثه آکوچکیان mohadeseh_ak@yahoo.com 10031947532846006136 10031947532846006136 Yes دانشگاه صنعتی اصفهان Mohammad Jannesari محمد جان نثاری ladani1383@yahoo.com 10031947532846006137 10031947532846006137 No شرکت صنایع الکترواپتیک (صاایران) اصفهان Hossein Ahmadvand حسین احمد وند ahmadvand@cc.iut.ac.ir 10031947532846006138 10031947532846006138 No دانشگاه صنعتی اصفهان